Information | |
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has gloss | eng: Immersion lithography is a photolithography resolution enhancement technique that replaces the usual air gap between the final lens and the wafer surface with a liquid medium that has a refractive index greater than one. The resolution is increased by a factor equal to the refractive index of the liquid. Current immersion lithography tools use highly purified water for this liquid, achieving feature sizes below 45 nanometers . ASML, Nikon and Canon are currently the only manufacturers of immersion lithography systems. An enhancement is HydroLith immersion technology which allows a "measure dry, expose wet" process. |
lexicalization | eng: immersion lithography |
instance of | c/Semiconductor materials |
Meaning | |
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Korean | |
has gloss | kor: 액침 노광은 렌즈와 웨이퍼 표면 사이의 공간을 굴절률이 큰 액체의 매질로 대체하여 포토리쏘그래피의 분해능을 증가시키는 기술이다. 액체의 굴절률이 늘어남에 따라 각도 분해능도 늘어나게 된다. 최근의 액침 노광 장치들은 이 액체로 순도 높은 물을 사용하여 37 나노미터 이하의 폭에 도달했다. ASML Holding, Nikon, Canon만이 액침 노광을 사용하는 공장이다. |
lexicalization | kor: 액침 노광 |
lexicalization | kor: 액침노광 |
Dutch | |
has gloss | nld: Immersielithografie is een techniek om de details, die ten behoeve van de chipsfabricage op een wafer worden geëtst, te verkleinen. |
lexicalization | nld: immersielithografie |
Ukrainian | |
has gloss | ukr: Імерсія (рос. иммерсия, англ. immersion, нім. Immersionsflüssigkeit f) – введення рідини (кедрової олії, вазеліну, водного розчину гліцерину) між розглядуваним предметом і об'єктивом мікроскопа, щоб підвищити освітленість зображення. |
lexicalization | ukr: Імерсія |
Media | |
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media:img | 56 nm hp polarized image.PNG |
media:img | Immersion lithography illustration.svg |
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